Fundamentals of EUV Lithography

오전 11:00 - 오전 11:50

EUV 노광기술은 이미 로직 소자 뿐만 아니라 DRAM 소자의 양산에 적용되고 있지만 해상도의 확보 이외에도 생산성의 향상 및 패턴 결함의 저감을 위한 다양한 기술개발이 진행되고 있다. 본 강좌에서는 노광에서 해상도를 개선하는 기본원리로부터 시작하여 EUV 노광장치의 구조, EUV 마스크의 특성, EUV 펠리클의 요구특성, EUV 레지스트의 감광 특성 등을 설명한다. 또한 조만간 다가올 high-NA EUV 노광기술에 적용되는 신기술도 간단히 소개한다. 본 강연은 EUV 리소그라피 공정을 시작하려는 분들에게 도움이 될 수 있도록 준비될 것이다.

Featured Speakers

Jinho Ahn

Prof. Jinho Ahn

Executive Vice President for Research/ Professor, Hanyang University

강연자는 서울대학교에서 학사와 석사 학위를 받은 뒤 The University of Texas at Austin에서 재료공학 박사 학위를 받았다. 일본전기 (NEC) Microelectronics 연구소에서 근무한 후 1995년부터 한양대학교 신소재공학부 교수로 근무 중이다. 1998년부터 EUV Lithography 관련 연구를 시작한 후, 2002년부터 10년간 산업부가 지원하는 차세대 신기술 극자외선 노광기술개발사업 이외에 26년간 극자외선 노광기술과 관련된 연구를 진행하고 있다. 그는 한국연구재단 나노융합단장, 한양대학교 산학협력단장을 역임하였다. 현재 그는 한양대학교 연구부총장, 나노기술연구협의회 회장, 한양대학교 스마트반도체연구원 원장, 극자외선 노광기술 산학협력센터 (EUV-IUCC) 센터장으로 활동하고 있다. 또한 2023년에는 과학기술정보통신부에서 10년간 지원하는 혁신연구센터인 CH3IPS (Center for Hyperscale, Hyperfunction, Heterogeneous Integration Pioneering Semiconductor Technology)의 센터장으로 취임하였다. 그는 2015년에 대한민국 대통령으로부터 반도체 기술 공로상을 수상한 바 있다.