02-531-7800

Korean


Workforce Pavilion - Cleaning & CMP Tutorial

Room 308, COEX Thursday, January 24
9:00am to 12:00pm

This tutorial aims to provide a basic course for new engineers who is working at cleaning & CMP technology related area. With this practical lecture from device makers, material suppliers and academia, we expect you will learn the challenges and fundamental technologies in cleaning & CMP process.
 
  • 날짜: 2019년 1월 24일(목)
  • 시간: 09:00-12:00
  • 장소: 코엑스 3층 308호
  • 언어: 한국어 (동시통역은 제공되지 않습니다.)

 

등록비

 
SEMI 회원사
비회원사
학생
사전등록(1/16까지)
100,000 원
120,000 원
50,000 원
현장등록
120,000 원
150,000 원
80,000 원

 

아젠다

   
09:00-09:45
Role and Responsibility of CMP Process in Recent IC Technology
 
 
 
09:45-10:00
Q&A / Break
 
 
10:00-10:45
Contamination Control
 
SK Chae, Sungkyunkwan University
 
 
10:45-11:00
Q&A / Break
 
 
11:00-11:45
Electroplating Trend in Semiconductor
 
 
 
11:45-12:00
Q&A
 
 
*상기일정은 사전 안내 없이 변경될 수 있습니다. 
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