02-531-7800

Korean


S2. Advanced Materials & Process Technology

Room 308, COEX Wednesday, January 23
1:00pm to 5:00pm

업데이트 예정

 

  • 행사명: S2. Advanced Materials & Process Technology
  • 날짜: 2019년 1월 23일 (수)
  • 시간: 13:00-17:00
  • 장소: 코엑스 3층 308호
  • 주제
  • 언어
  • 후원

 

Committee

  • Si Bum Kim (MagnaChip Semiconductor)
  • DeokSin Kil (SK hynix)
  • Hyoungyoon Kim (DB HiTek)
  • Jae Sung Roh (Jusung Engineering)
  • Kiseon Park (SK Materials)
  • Hyun Chul Sohn (Yonsei University)
  • Gill Lee (Applied Materials)
  • Marco Lee (Lam Research Korea)
  • Jong Min Lee (Eugene Technology)
  • In Gon Lim (Digital Imaging Technology)
  • HanJin Lim (Samsung Electronics)
  • Ji Hyun Choi (Tokyo Electron Korea)

 

등록비

  SEMI 회원사 비회원사 학생
사전등록(1/24까지) 150,000 원 180,000 원 80,000 원
현장등록 180,000 원 200,000 원 100,000 원

 

    아젠다

     13:00-13:40
       
     13:40-14:00
       
     14:00-14:20
       
     14:20-14:40
       
     14:40-15:00 Break
       
     15:00-15:40
       
     15:40-16:00
       
     16:00-16:40
     
     
     16:40-17:00
     
    *상기일정은 사전 안내 없이 변경될 수 있습니다. 
    *발표자료는 연사동의를 받은 자료에 한하여 행사 이후 이메일로 다운로드 방법을 안내드립니다.
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