02-531-7800

Korean


S1. Advanced Lithography

Room 307, COEX Wednesday, January 23
1:00pm to 5:00pm

업데이트 예정

  • 행사명: S1. Advanced Lithography
  • 날짜: 2019년 1월 23일 (수)
  • 시간: 13:00-17:00
  • 장소: 코엑스 3층 307호
  • 주제
  • 언어
  • 후원

 

Committee

  • Shangwon Kim (DB HiTek)
  • Seong-Sue Kim (Samsung Electronics)
  • Jaehyun Kim (Dongjin Semichem)
  • Hong Seok Kim (Toppan Photomasks Korea)
  • Chang-Nam Ahn (ASML Korea)
  • Hye-Keun Oh (Hanyang University)
  • Changmoon Lim (SK hynix)
  • Jaesung Choi (ASML Korea)

 

등록비

  SEMI 회원사 비회원사 학생
사전등록(1/24까지) 150,000 원 180,000 원 80,000 원
현장등록 180,000 원 200,000 원 100,000 원

 

    아젠다

     13:00-13:40
     
     
     13:40-14:20
     
     
     14:20-14:40
     
     
     14:40-15:00
     
     
     15:00-15:20
    Break
     
     
     15:20-16:00
     
     
     16:00-16:20
     
     
     16:20-16:40
     
     
     16:40-17:00
    Break
     
     
     17:00-17:20
     
     
     17:20-17:40
     
     
     17:40-18:00
     
    *상기일정은 사전 안내 없이 변경될 수 있습니다. 
    *발표자료는 연사동의를 받은 자료에 한하여 행사 이후 이메일로 다운로드 방법을 안내드립니다.
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